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产品简介
实验室真空高温炉
设备简介
美国Thermal Technology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单，性能稳定。**可定制温度达3000℃。
设备特点：
* 丰富加热原件可供选择
* **温度可达3000°C
* 可实现超高真空
* 可实现Ar/N2/O2/H2等多种气氛环境
应用领域:
美国Thermal Technology高温炉可用于粉末冶金、金属化合物、陶瓷、半导体、物理、化学、材料、光学等诸多领域的样品合成及热处理工艺。
石墨高温炉
金属高温炉
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